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Gist-Pohang त्वरक अनुसंधान संस्थान संयुक्त अध्ययन “पर्यावरण के अनुकूल और उच्च दक्षता”
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Gwangju इंस्टीट्यूट ऑफ साइंस एंड टेक्नोलॉजी (GIST) ने 17 वीं पर घोषणा की कि केमिस्ट्री के प्रोफेसर हांग सेक -वॉन में अनुसंधान टीम ने सेमीकंडक्टर नैनो फाइन एकीकृत सर्किट के उत्पादन के लिए इको -फ्रेंडली हीट -आधारित सूखी प्रक्रिया विकसित की, जो डॉ। के साथ संयुक्त अनुसंधान के माध्यम से मिलती है। ह्वांग चान -गुक, पोहांग एक्सेलेरेटर रिसर्च इंस्टीट्यूट (PAL) में एक शोध टीम।
सेमीकंडक्टर मैन्युफैक्चरिंग प्रोसेस टेक्नोलॉजी, जो फोटोरिसिस्ट का उपयोग करती है, रिसर्च टीम द्वारा विकसित एक चरम ईयूवी रिएक्शन पॉलिमर सामग्री, सिलिकॉन पर बालों की तुलना में एक बहुत ही बढ़िया सर्किट पैटर्न को उकेरकर अगले -जनरेशन इलेक्ट्रॉनिक्स के प्रदर्शन में सुधार करने में महत्वपूर्ण भूमिका निभा सकती है। वेफर। ।
जैसे -जैसे अर्धचालक सर्किट पैटर्न अधिक से अधिक ठीक हो गया, मौजूदा गीले प्रसंस्करण विधि ने तरल रसायनों की सतह तनाव और गुणवत्ता की समस्या के कारण चरम अवरक्त फोटोरिसिस्ट के ठीक पैटर्न को उठाया।
इसके अलावा, समर्पित उपकरण प्रदान करना आवश्यक है, न केवल लागत, बल्कि खतरनाक रसायनों के उपयोग के कारण पर्यावरणीय समस्याएं भी।
शुष्क प्रक्रिया कानून पैटर्न के पतन को रोकने, उच्च रिज़ॉल्यूशन पैटर्न को लागू करने और अर्धचालक विनिर्माण प्रक्रिया चरण को कम करने और उत्पादकता बढ़ाने के लिए हानिकारक पदार्थों के उपयोग को कम कर सकता है।
टीम ने उत्कृष्ट चरम अवरक्त संवेदनशीलता के साथ पदार्थों को संश्लेषित करने के लिए अपने स्वयं के फोटोरिसिस्ट का उपयोग किया, और अनुकूलित गर्मी -आधारित शुष्क प्रक्रिया कानून के माध्यम से एक माइक्रो (80 एनएम) नैनो पैटर्न को लागू करने में सफल रहा। मै प्रायौगिक किया।
प्रोफेसर हांग सेक -वोन ने कहा, “यह सार्थक है कि इसने घरेलू प्रौद्योगिकी का उपयोग करके एक साधारण गर्मी उपचार प्रक्रिया के साथ एक अभिनव इको -फ्रेंडली हीट -आधारित सूखे फोटोरिसिस्ट को विकसित किया है।”
प्रोफेसर होंग और डॉ। ह्वांग चान -गुक, एक सह -अघोषित, के नेतृत्व में यह अध्ययन, डॉ। किम डो -वोन, डॉ। जिन -ह्वान ब्यून, और डॉ। जे -बोंग अहान द्वारा सह -संध्या को पहले लेखक के रूप में किया गया था। । यह पिछले महीने के 23 तारीख को प्रकाशित हुआ था।
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